هيثم خزعل«رسم مدارات كهربائية بسماكة لا تتجاوز 20 نانومتراً!». هذا أبرز ما جاء في الدراسة التي أطلقتها مجموعة من الباحثين في جامعة كاليفورنيا. وتُعدّ هذه النتائج ثورة في عالم النانوتكنولوجيا. اعتمدت الطباعة التصويرية التقليدية على توجيه حزمة من الأشعة ما فوق البنفسجية، للنقش على السيليسيوم (عضو كيميائي) المكوّن للموصلات الكهربائية، بغية رسم الحلقة المقفلة التي يمر فيها التيار الكهربائي، على طبقة من الراتنج (مادة صمغية لزجة تفرزها بعض النباتات) التي تُستخدم قناعاً حامياً للموصلات الكهربائية.
اصطدمت هذه التقنية بحدود فيزيائية، وأفضل ما تم التوصل إليه بالطرق الكلاسيكية هو رسم خطوط بسماكة 45 نانومتراً. وقد استطاعت شركة أنتل رسم خطوط بسماكة 32 نانومتراً. تمكنت المجموعة الجديدة من الالتفاف على المشكلة عبر استبدال الراتنج ببناء كيميائي أصغر حجماً، مكوّن من مركبات كيميائية مختلفة هي البوليستيرين والبولياتيلين غليكول. المركّب الأول غير قابل للذوبان في الماء، أما المركّب الثاني فهو قابل للذوبان في الماء وغير مسمم. ويمتاز هذان المركّبان بقابلية التجمع التلقائي كل مع مثيله. وبضبط عملية التجمع، استطاع الباحثون خلق تركيبات مربعة يتراوح طول ضلعها بين 5 و20 نانومتراً. المركبان الكيميائيان المستخدمان يظهران قابلية للتنافر والتفكك عند الأطراف، وهذا ما حدا بالباحثين إلى تغليف الأطراف المتنافرة كيميائياً بواسطة كتل صغيرة لمنع اتصال المركبين عندها. من خلال خلق إمكان وجود تجمعين تلقائيين مختلفين، تمكن الباحثون من الحصول على مربعات لنقش حلقة التيار الكهربائي بشكل أهم. وبعد انتظام الدورة الكهربائية في حدود المربعات المنشأة، يُعرّض المركب لهجمات كيميائية لإزالة الأجزاء غير المحمية بغية الحفاظ على الخط المنقوش.